공통 매개 변수
공통 매개 변수는 모든 제빵사에 적용됩니다. 이러한 매개 변수는 일반적으로 베이커가 하이 폴리 메시로 어떻게 움직이고 작업할지, 그러나 최종 텍스처가 어떻게 생성될지를 정의합니다. 이러한 매개 변수 중 일부는 특정 베이커에서 재정의할 수 있습니다.
이러한 매개 변수 대부분은 모든 소프트웨어(Substance 자동화 툴킷 포함)에서 사용할 수 있지만, 소프트웨어 작업 과정 및 구현에 따라 일부 매개 변수는 사용할 수 없거나 동작이 약간 다를 수 있습니다.
일반 매개 변수
이러한 매개 변수는 베이커가 텍스처를 생성하는 방식에 영향을 줍니다.
베이킹 출력 텍스처 해상도를 제어합니다(픽셀 단위).사용 가능한 값:
- 32
- 64
- 128
- 256
- 512
- 1024
- 2048(기본값)
- 4096
- 8192
정사각형이 아닌 해상도도 지원됩니다(예: 2048x1024(2:1 비율). Substance Designer에서 이 매개 변수는 베이커 자체에 의해 재정의될 수 있습니다.
앤티 앨리어싱을 제어하여 구운 텍스처의 품질을 향상시키고 다른 형상이 연결되는 경우 앨리어싱을 줄일 수 있습니다.앨리어싱에 대해 자세히 알아보려면 UV 이음새에 앨리어싱 및 위키피디아에 앨리어싱을 참조하십시오.사용 가능한 값:
- 없음(기본값)
- 서브샘플링 2x2
- 서브샘플링 4x4
- 서브샘플링 8x8
참고: 앤티 앨리어스를 사용하면 텍스처를 더 높은 해상도로 계산한 다음 원래 선택한 크기로 다시 다운스케일링하여 앤티 앨리어스를 적용할 수 있으므로 베이킹 시간이 상당히 늘어날 수 있습니다. 즉, 2x2 서브샘플링을 사용하는 2K 텍스처는 실제로 4K 텍스처를 계산합니다.때로는 서브샘플링을 증가시키기보다는 베이커에서 광선의 수를 증가시키는 것이 바람직하다. 너무 오래 기다리지 않고도 더 나은 결과를 얻을 수 있었다.
높은 폴리 매개 변수
다음 매개 변수는 높은 폴리 대 낮은 폴리 메쉬 베이킹(“메쉬 베이커”)을 제어합니다.
베이커가 낮은 도형과 높은 도형을 일치시키는 방법을 나타냅니다. 수동으로 메쉬를 분리(분해)시킬 필요 없이 베이킹 프로세스를 필터링하는 데 사용할 수 있습니다.가능한 값:
- 항상(기본값): 낮은 폴리 메시가 모든 높은 폴리 메시와 일치합니다.
- 메시 이름별: 메시 이름을 기준으로 필터링하여 원하지 않는 형상과 일치하지 않도록 합니다.
일치하는 도형에 대해 자세히 알아보려면 이름별 일치를 참조하세요.
메쉬 이름(Mesh name)은 이름별 일치(Matching By Name) 피쳐를 사용할 때 형상을 식별하고 함께 그룹화하는 접미사입니다. 사용 가능한 접미어:
- 낮은 폴리 메시: 장면의 낮은 폴리 메시를 식별하는 접미어
- 높은 폴리 메시: 장면의 높은 폴리 메시를 식별하는 접미어
- 뒷면 무시: 특정 베이커가 무시해야 하는 망을 식별하는 접미어(메시에서 앰비언트 오클루전와 유사)
도형 일치에 대한 자세한 내용은 이름별 일치 를 참조하십시오.