모양 튀김 v2

모양 스플래터 v2 아이콘

내부: 생성기 > 패턴

설명

가상 3D 공간에서 분산하기 위한 고급 기능을 사용하여 배경 Height 표면에 모양을 산란(위치, 회전, 크기 조정 및 임의성 컨트롤 포함)합니다.

노드는 기본 기본 기본 3D 모양을 제공하고 복잡한 사용자 지정 3D 모양을 위해 패턴 이미지, 아틀라스 또는 부호 있는 거리 필드(SDF) 함수로 제공되는 사용자 지정 모양을 지원합니다.

완전한 제어를 위해 사용자 지정 함수를 작성하는 것을 포함하여 여러 모양 배포 방법을 사용할 수 있습니다.

사용자 지정 밀도 맵를 사용하여 모양을 특정 영역으로 가져올 수 있습니다.

참고: 이 노드는 Substance 엔진의 CPU 버전(예: SSE2(Windows, Linux) 및 NEON(macOS))에서 사용할 수 없습니다.

INFO
이 노드에서 생성한 데이터는 Shape Splatter v2 제품군의 다른 노드와 함께 사용할 수 있습니다.
그리드 아틀라스 색상 노드를 사용하면 이미지를 4*4 셀에 최대 16개의 패턴으로 사용자 지정 크기의 지도에 압축할 수 있습니다.
TIP
'Rusty bolt' 재료 샘플을(를) 사용하여 모양 스플래터 v2 노드를 시작할 수 있습니다.
SDF 함수와 관련된 개념 및 작업 과정에 대해 자세히 알아보려면 전용 페이지로 이동하십시오. SDF 함수 작업

입력

배경 Height 회색 음영
모양이 흩어져 있는 기본 높이 맵입니다. 각 Height은 '최대 혼합’을 사용하여 결합하며, 여기서 둘 중 더 높은 값이 사용됩니다.

배경 Height이 출력 Height에 기여하는 정도는 배경 입력 불투명도 매개 변수에 의해 제어됩니다.
밀도 맵 회색 음영
모양의 밝은 영역에 모이는 광도에 따라 모양의 변위를 제어하는 회색 음영 맵입니다.

모양 변위 강도는 밀도 맵 승수 매개 변수에 의해 제어됩니다.
Height 오프셋 맵 회색 음영
모양의 피벗 위치에 따라 모양에 균일하게 값이 추가되는 회색 음영 맵

맵의 기여도는 Height 오프셋 맵 승수 매개 변수에 의해 제어됩니다.
Height 비율 맵 회색 음영
모양 Height에 대한 인수로 사용되는 값을 나타내는 회색 음영 맵

맵의 기여도는 Height 비율 맵 승수 매개 변수에 의해 제어됩니다.
모양 비율 맵 회색 음영
모양의 스케일에 대한 인수로 사용되는 값을 나타내는 회색 음영 맵

지도의 기여도는 지도 배율 매개 변수에 의해 제어됩니다.
모양 회전 회색 음영
셰이프의 3D 회전에 값이 추가되는 회색 음영 맵으로, 3D 회전 맵 승수 매개 변수에서 제공하는 축별 요소에 의해 조정됩니다.
벡터 맵 색상
다음 매개 변수를 사용하여 모양의 회전 및/또는 위치를 구동하는 데 사용할 수 있는 방향 벡터를 설명하는 맵입니다.

- 벡터 맵 변위는 모양을 이동하는 맵의 효과를 조정합니다.
- 경사 회전 입력은 관련 매개 변수를 사용하여 모양을 회전하는 데 이 맵을 사용하려면 '벡터 맵’으로 설정할 수 있습니다.
마스크 맵 회색 음영
지도 임계값.

에 따라 모양을 마스킹하는 데 사용되는 이미지입니다. 즉 광도가 해당 임계값 미만인 지도 영역에 있는 모양이 마스킹됩니다.
패턴 입력 1 회색 음영
패턴 형식이(가) '패턴 입력’으로 설정되어 있을 때 흩어져 있는 #1 패턴의 Height 맵입니다.

팁: 흩어져 있을 때 패턴이 가질 수 있는 최대 크기에 가까운 해상도를 사용하십시오.
패턴 입력 2 회색 음영
패턴 형식이(가) '패턴 입력’으로 설정되어 있을 때 흩어져 있는 #2 패턴의 Height 맵입니다.

팁: 흩어져 있을 때 패턴이 가질 수 있는 최대 크기에 가까운 해상도를 사용하십시오.
패턴 입력 3 회색 음영
패턴 형식이(가) '패턴 입력’으로 설정되어 있을 때 흩어져 있는 #3 패턴의 Height 맵입니다.

팁: 흩어져 있을 때 패턴이 가질 수 있는 최대 크기에 가까운 해상도를 사용하십시오.
패턴 입력 4 회색 음영
패턴 형식이(가) '패턴 입력’으로 설정되어 있을 때 흩어져 있는 #4 패턴의 Height 맵입니다.

팁: 흩어져 있을 때 패턴이 가질 수 있는 최대 크기에 가까운 해상도를 사용하십시오.
패턴 입력 5 회색 음영
패턴 형식이(가) '패턴 입력’으로 설정되어 있을 때 흩어져 있는 #5 패턴의 Height 맵입니다.

팁: 흩어져 있을 때 패턴이 가질 수 있는 최대 크기에 가까운 해상도를 사용하십시오.
패턴 입력 6 회색 음영
패턴 형식이(가) '패턴 입력’으로 설정되어 있을 때 흩어져 있는 #6 패턴의 Height 맵입니다.

팁: 흩어져 있을 때 패턴이 가질 수 있는 최대 크기에 가까운 해상도를 사용하십시오.
패턴 입력 7 회색 음영
패턴 형식이(가) '패턴 입력’으로 설정되어 있을 때 흩어져 있는 #7 패턴의 Height 맵입니다.

팁: 흩어져 있을 때 패턴이 가질 수 있는 최대 크기에 가까운 해상도를 사용하십시오.
패턴 입력 8 회색 음영
패턴 형식이(가) '패턴 입력’으로 설정되어 있을 때 흩어져 있는 #8 패턴의 Height 맵입니다.

팁: 흩어져 있을 때 패턴이 가질 수 있는 최대 크기에 가까운 해상도를 사용하십시오.
그리드 아틀라스 Height 회색 음영
아틀라스에 채워진 패턴의 Height을 설명하는 이미지입니다.

그리드 아틀라스 크기 매개 변수를 사용하여 아틀라스의 격자 크기를 지정합니다.
그리드 아틀라스 정상 색상
아틀라스에 채워진 패턴의 표준을 설명하는 이미지입니다.

그리드 아틀라스 크기 매개 변수를 사용하여 아틀라스의 격자 크기를 지정합니다.

출력

Height
배경 Height(사용 중이고 보이는 경우)를 포함하여 흩어진 모양에 대해 계산된 높이 맵입니다.
SDF 색상
SDF 함수에서 만든 모양의 색상입니다.

SDF 함수 그래프에서 색상 설정 노드를 사용하여 모양의 구성 요소별 색상을 정의합니다.
SDF metalness
SDF 함수에서 만든 모양의 색상입니다.

SDF 함수 그래프에서 metalness 설정 노드를 사용하여 모양의 구성 요소당 metalness 값을 정의합니다.
SDF 거칠음
SDF 함수에서 만든 모양의 색상입니다.

SDF 함수 그래프에서 거칠기 설정 노드를 사용하여 모양의 구성 요소당 거칠기 값을 정의합니다.
표준
배경 Height과의 혼합에 따라 마스크된 흩어진 모양에 대해 계산한 정규입니다.

모양 유형이 '그리드 아틀라스’인 경우 그리드 아틀라스 일반 입력에 제공된 정규식이 직접 사용됩니다.
Splatter UVW
R - 모양의 UV 구성 요소
G - 모양의 UV 구성 요소
B - 모양의 Height. (W)
A - 압축된 데이터:
- 정수 부분: 모양의 고유 식별자. (ID)
- 분수 부분:은(는) 모양 유형에 따라 다릅니다. 재질 ID(SDF/기본 형식인 경우), 패턴 ID*(패턴 입력/그리드 아틀라스인 경우).

*: 패턴 ID는 목록/아틀라스에 있는 모양의 인덱스입니다.
스플래터 데이터 1
R - 개체 공간에서 모양 표면상의 위치의 X 구성 요소입니다.
G - 개체 공간에서 모양 표면상의 위치의 Y 구성 요소입니다.
B - 개체 공간에서 모양 표면상의 위치의 Z 구성 요소입니다.
A - 압축된 데이터:
- 정수 부분: 데이터 2/3 출력에서 모양의 데이터에 대한 UV 좌표의 U 구성 요소입니다.
- 분수 부분: 데이터 2/3 출력의 모양 데이터에 대한 UV 좌표의 V 구성 요소입니다.
- 서명: 모양을 배경 Height과 혼합하기 위한 이진 마스크입니다.
스플래터 데이터 2
R - 모양의 3D 회전의 X 구성 요소.
G - 모양의 3D 회전의 Y 구성 요소.
B - 모양의 3D 회전의 Z 구성 요소.
A - 모양의 회전이 정상적으로 이루어집니다.

모든 회전은 회전 수로 정의됩니다.
스플래터 데이터 3
R - 셰이프 위치의 X 구성 요소입니다.
G - 셰이프 위치의 Y 구성 요소입니다.
B - 셰이프의 균형을 유지합니다.
A - 압축된 데이터:
- 정수 부분: 셰이프의 고유 식별자입니다.
- 분수 부분:원본 아틀라스에 있는 도형 패턴의 인덱스입니다. 그리드 아틀라스 패턴 유형을 사용하는 경우
스플래터 데이터 4
픽셀 1
R - 데이터 2/3 출력 이미지의 X 크기
G - 데이터 2/3 출력 이미지의 Y 크기
B - 데이터 4 출력 이미지의 X 크기
A - 데이터 4 출력 이미지의 Y 크기.

픽셀 2
R - 모양 유형입니다. (E.g. 큐브, 원통, …)
G - 압축된 데이터:
- 절대 값: 패턴 입력 번호입니다.
- 서명: 출력 표준 맵의 표준 형식입니다. (양수: DirectX/음수: OpenGL)
B - 그리드 아틀라스의 X 크기. (즉, 열의 양)
A - 그리드 아틀라스의 Y 크기입니다. (예: 행의 양)

매개변수

위치 분포 모드 정수
공간에 모양을 배포하는 방법:

- 2D 격자: 단순한 균일 격자.
- 포아송 디스크: 사용 가능한 공간을 사용하는 동안 겹치지 않도록 격자의 셀을 임의로 오프셋하는 것을 목표로 하는 시뮬레이션입니다.
- 균일: 지정된 수의 모양에 대한 균일 분포입니다. 더 많은 계산 작업이 필요합니다.
- 사용자 지정 함수: 함수의 분포를 정의하는 함수 그래프를 작성하십시오. 사용 가능한 변수는 노드 설명에 나열됩니다.
위치 함수 Float2
모양의 분포를 정의하는 데 사용되는 함수 그래프입니다.

그래프는 이미지에서 모양의 XY 정규화된 위치에 대한 Float2 값을 출력합니다.

사용 가능한 변수:
- shape.id (부동) 모양의 고유 식별자입니다.
- 모양.양 (Float) Amount 매개 변수로 지정된 모양의 양입니다.
X 양 정수
분포 눈금선에 있는 열의 양입니다.

즉, X축에서 생성된 모양의 양입니다.
Y 양 정수
분포 표의 행 수

즉, Y축에서 생성된 도형의 양입니다.
금액 정수
생성된 모양의 양입니다.
출력 일반 형식 정수
출력 표준 맵의 형식입니다.

녹색 채널을 효과적으로 반전합니다.

- DirectX: Y축은 위로 향합니다.
- OpenGL: Y축은 아래로 향합니다.
정사각형이 아닌 확장 부울
정사각형이 아닌 이미지에서 모양 비율을 유지하고 생성 범위를 이미지의 경계까지 확장합니다.
모양 유형 정수
흩어질 수 있는 여러 유형의 형상이 있으며, 각각은 특정 특징을 제공한다.

SDF 함수는 3D 모양의 표면을 설명하는 부호 있는 거리 필드(SDF)를 생성하는 함수 그래프입니다. 이는 동적으로 변할 수 있는 복잡한 절차 형상의 3D 산란을 가능하게 한다.간단한 광선/표면 교차 함수를 사용하여 계산된

기본 모양을 사용할 준비가 되었습니다. 큐브, 구, 실린더, 평면, 디스크

입력 패턴은 그래프에서 제공하는 이미지입니다. 이는 평면에 매핑되며 3D 모양으로 돌출할 수 있습니다.
- 이미지 입력: 패턴 입력 # 입력 핀에 연결된 패턴입니다.
- 그리드 아틀라스: 그리드 아틀라스 입력에 연결된 아틀라스 이미지에 압축된 패턴입니다.
그리드 아틀라스 크기 정수2
그리드 아틀라스 이미지 입력에 제공된 아틀라스의 행과 열의 양입니다.

참고: 아틀라스에 빈 셀이 있으면 모양 분포에 간격이 생깁니다.
그리드 아틀라스 정상 다시 계산 부울
True인 경우 그리드 아틀라스 표준 이미지 입력에 제공된 표준 맵이 무시되고 그리드 아틀라스 Height에 제공된 패턴의 표준이 처음부터 계산됩니다.

False일 때 그리드 아틀라스 표준에 제공된 표준 맵을 그대로 사용합니다.

참고: 표준의 강도는 모양 돌출 Height에 따라 조정됩니다.
그리드 아틀라스 일반 형식 정수
그리드 아틀라스 표준 이미지 입력에 제공된 표준 맵의 형식입니다.

녹색 채널을 효과적으로 반전합니다.

- DirectX: Y축은 위로 향합니다.
- OpenGL: Y축은 아래로 향합니다.
패턴 입력 번호 정수
입력 이미지로 제공되는 패턴의 양입니다.

최대 패턴 입력 # 입력 핀을 노드에 추가합니다.
모양 돌출 사용 부울
입력 패턴을 Height 맵으로 해석하여 밀어내기를 전환하므로 복잡한 절차 3D 모양이 발생합니다.
모양 돌출 대칭 부울
입력 패턴을 앞뒤로 대칭적으로 밀어낼 수 있습니다.

대칭 축은 돌출부의 중간 지점입니다. 즉, 모양의 피벗 위치에 따라 위치가 변경될 수 있습니다.
모양 돌출 Height 부동
이미지 공간에서 최대 밀어내기 거리입니다. 여기서 1은 이미지의 가장 긴 면입니다.

이 거리는 모양 비율 값에 맞게 조정됩니다.
모양 돌출 샘플 정수
입력 패턴의 돌출을 그리기 위해 수행되는 샘플의 양입니다.

많은 양은 일부 성능을 희생하면서 더 부드럽고 더 정의된 돌출을 만듭니다.
패턴 함수 부동
3D 평면 SDF에 매핑된 패턴을 계산하는 데 사용되는 작성된 Substance 함수 그래프입니다.

이러한 패턴은 모양 돌출 사용을 사용하여 돌출할 수도 있습니다.
패턴 SDF 함수 부동
공간에서 3D 개체의 표면을 설명하는 부호 있는 거리 필드(SDF)를 작성하는 Substance 함수 그래프입니다.

라이브러리에서 SDF 함수의 기본 제공 컬렉션을 검색하여 사용 가능한 연산자 및 변형을 사용하여 여러 SDF 프리미티브를 결합하여 복잡한 개체를 제작합니다.

SDF 모양은 완전히 프로시저가며 동적으로 조정할 수 있으므로 흩어져 있는 각 모양이 고유되도록 설정할 수 있습니다.

SDF 함수 결과를 시각화하려면 3D 뷰어 노드를 사용하세요.

참고: SDF 함수에 임의성을 적용하려면 '무작위’가 아닌 해시 노드를 사용하세요.
SDF 경계 프레임 크기 Float3
SDF 모양의 최대 테두리 상자(Bbox) 크기를 정의하며, 이 크기는 2D Bbox를 계산하는 데 사용됩니다.

모양은 2D Bbox 테두리 내에서만 그려지고 나머지는 트리밍됩니다.
컷아웃 사용 부울
컷아웃 임계값 아래의 모든 값을 무시하는 패턴 트리밍을 전환합니다. 이렇게 하면 원하는 패턴 실루엣만 사용됩니다.
컷아웃 임계값 부동
패턴 값이 트리밍되는 회색 음영 값입니다. 즉, 패턴의 실루엣에 대한 경계로 사용되는 값입니다.
정규화된 워크플로 부울
켜짐 인 경우 모양의 Height을 자동으로 조정하여 크기를 늘리거나 줄일 때 원래 비율을 유지합니다.

끄면 도형의 Height이 원래 비율과 관계없이 이미지의 전체 Height 범위로 표시됩니다.

모양 Height은 Height 비율 매개 변수를 사용하여 수동으로 조정할 수 있습니다.
모양 배율이 Height 배율에 영향을 줌 부울
True인 경우 모양의 비율을 유지하기 위해 크기가 변경될 때 모양의 Height 크기가 조정됩니다.

False인 경우 Height 비율은 모양 비율과 독립적이므로 변형됩니다.
Height 크기 부동
모양의 Height에 대한 승수입니다. 여기서 1은 모양의 정규화된 Height 범위의 이미지 전체 Height 범위에 표현된 모양의 전체 Height입니다. (정규화된 워크플로 참조)
Height 비율 무작위 부동
각 모양의 Height을 지정된 비율까지 임의로 축소합니다. 여기서 1은 모양의 Height을 0까지 완전히 축소할 수 있음을 의미합니다.
Height 비율 맵 승수 부동
제공된 Height 비율 맵의 강도입니다. 여기서 1은 도형의 Height에 대해 전체 맵 값을 곱한 것을 의미합니다.
배경 입력 불투명도 부동
최종 높이 맵에서 제공된 배경 Height 입력의 강도입니다.

모양과 배경의 Height은 '최대 혼합’을 사용하여 결합됩니다. 여기서 둘 중 더 높은 것이 사용됩니다.
배경에서 Height 오프셋 부동
도형의 Height에 추가해야 하는 배경 Height의 비율입니다. 여기서 1은 전체 배경 Height이 추가되었음을 의미합니다.

배경 Height에 ‘rest’ 모양을 지정하는 데 사용할 수 있습니다.
배경 일치 부동
픽셀당 배경 Height과 일치하도록 모양의 Height에 적용된 변형 강도입니다. 여기서 1은 정확히 일치하는 것을 의미합니다.

참고: 이 매개 변수는 배경에서 Height 오프셋 = 0이면 영향을 주지 않습니다.
배경 매끄럽게 경사 부동
배경에서 Height 오프셋 및 배경 일치 조정에 사용되는 배경 Height에 적용된 매끄러움 강도입니다.

이렇게 하면 변형 빈도와 Height 오프셋이 부드러워져 원하는 것보다 더 커질 수 있습니다.
Height 오프셋 부동
도형의 Height에 추가된 값으로, 직선 오프셋이 생성됩니다.

값은 이미지의 전체 Height 범위로 표시됩니다.
Height 오프셋 무작위 부동
지정된 값까지 모양의 Height에 임의 오프셋을 적용합니다.

값은 이미지의 전체 Height 범위로 표시됩니다.
ID에서 Height 오프셋 부동
분포의 색인에 따라 모양의 Height에 적용되는 오프셋으로, 한 모양에서 지정된 값까지 다음 모양으로 선형적으로 증가합니다.

값은 [0, 1]을(를) 초과하여 수동으로 설정할 수 있습니다. 범위.
Height 오프셋 맵 멀티플라이어 부동
지정된 계수를 사용하여 Height 오프셋 맵에 의해 적용되는 오프셋의 강도를 조정합니다. 여기서 1은 맵의 강도 값이 그대로 적용됨을 의미합니다.

XY 피벗 위치에서 오프셋 맵의 값을 추가하여 전체 모양의 Height을 오프셋합니다.

승수 값은 [0, 1]을(를) 초과하여 수동으로 설정할 수 있습니다. 범위.
크기 모드 정수
흩어진 모양의 크기를 정의하는 방법:

- 자동: 크기 는 모양 셀 크기의 인수로 표시됩니다.
- 절대(텍스처 공간): 크기 는 이미지의 가장 긴 변의 인수로 표시됩니다.
크기 비율 유지 부울
정사각형이 아닌 격자 및 이미지 크기에서 원래 비율을 유지하도록 모양의 크기를 조정합니다.
모양 비율 부동
크기 모드에서 정의한 인수로 모양의 크기를 나타냅니다.

참고: 포아송 디스크 배포를 사용할 때 모양의 크기를 조정하면 사용 가능한 공간을 활용하기 위해 모양이 이동됩니다. Shape scale post Poisson 매개 변수를 사용하여 제자리에서 모양의 크기를 조정합니다.
모양 비율 무작위 부동
지정된 값까지 임의의 배율로 모양의 크기를 줄입니다. 여기서 1로 설정하면 일부 모양의 크기가 0 크기까지 줄어 들 수 있습니다.
지도 배율 부동
모양 비율 맵의 값과 모양의 크기를 곱한 강도입니다.
포아송 후 모양 비율 부동
포아송 디스크 시뮬레이션 후에 적용되는 비율 계수입니다.
모양 크기 Float3
모양 크기를 조정하기 위한 축당 개별 크기 조절 요소를 제공합니다.
모양 크기 무작위 Float3
지정된 값까지 축당 임의 계수로 모양의 크기를 줄입니다. 여기서 1을 지정하면 일부 모양의 크기가 0까지 줄어들 수 있습니다.
원통 반경 부동
흩어져 있는 원통 SDF의 반지름입니다. 반경은 크기 모드에 의해 정의된 계수로 표시됩니다.
모양 크기 Float2
모양 크기를 조정하기 위한 축당 개별 크기 조절 요소를 제공합니다.
모양 크기 무작위 Float2
지정된 값까지 축당 임의 계수로 모양의 크기를 줄입니다. 여기서 1을 지정하면 일부 모양의 크기가 0까지 줄어들 수 있습니다.
무작위 위치 부동
XY 축에 지정된 값까지 임의의 오프셋을 적용합니다. 여기서 1은 이미지의 가장 긴 변의 길이입니다.
위치 무작위 승수 Float2
XY 축의 모양에 적용된 무작위 오프셋에 대해 축당 개별 요소를 지정합니다.
위치 분포 순서 정수
우주에서 모양을 균일하게 분배하는 데 사용되는 알고리즘입니다.

- R2: 금색 비율을 기준으로 합니다. 빠르고 모양의 양에 관계없이 더 균일하고 무작위로 보이는 분포를 제공합니다.
- Halton: 소수를 기반으로 합니다. 이 기능은 스파스 분포에 대해 좋은 결과를 제공하지만 속도가 느려지고 모양 양이 증가함에 따라 선이 표시될 수 있습니다.

이러한 알고리즘은 공간을 균일하게(낮은 불일치) 덮는 것을 목표로 하는 결정론적 순서(quasirandom)를 따른다는 점에서 quasirandom 및 낮은 불일치로 알려져 있습니다.
밀도 맵 승수 부동
밀도 맵에서 가장 밝은 영역으로 모이도록 모양에 적용된 오프셋의 요소입니다.
표준을 따르는 오프셋 부동
법선(즉, 로컬 Z축)을 따라 모양을 변위합니다.
보통 무작위 오프셋 부동
모양에 표준선을 따라 임의의 양의 변위를 추가합니다.

지정된 값까지 임의의 양이 양수 또는 음수이거나 음수일 수 있습니다.
벡터 맵 변위 부동
벡터 맵의 RGB 값을 모양의 XYZ 좌표에 각각 추가하여 모양에 적용된 변위의 요소입니다.

변위는 이미지의 가장 긴 변의 인자로 표시됩니다.
예: RGB 값(0.5, 0.5, 0)은 X축과 Y축을 따라 크기의 절반으로 모양을 변위합니다.

매개 변수 값 1.0은 전체 값이 추가되었음을 의미합니다.
벡터 변위 멀티플라이어 Float3
벡터 맵 변위을(를) 축당 별도의 계수로 조정합니다. 여기서 0.0은 해당 축에 적용되는 변위가 없음을 의미합니다.
전역 오프셋 Float2
각 모양의 위치에 적용된 오프셋 after 모든 Height 오프셋, 임의 오프셋 및 기타 변위가 적용됩니다.

이것은 이 매개 변수를 사용하여 모양을 이동하면 위치, 방향 및 크기가 수정되지 않는다는 것을 의미합니다.
선 위치 오프셋 부동
선 위치 오프셋 모드에 따라 격자의 모양 선에 적용되는 오프셋입니다.
선 위치 오프셋 모드 정수
도형에 선 위치 오프셋을 적용하는 방법입니다.

모든 메서드는 이미지의 가장 긴 쪽(즉 텍스처 공간에서)에 대한 인수로 오프셋을 적용합니다.
- 모두 - 가로: 행 인덱스의 인수로 오프셋 값을 행별 가로로 점진적으로 추가합니다.
- 모두 - 세로: 열 인덱스의 인수로 오프셋 값을 열별 세로로 점진적으로 추가합니다.

Quincunx
메서드는 모양의 셀 크기에 대한 인수로 오프셋을 적용합니다.
- Quincunx - Horizontal: 오프셋 값을 다른 행마다 균일하게 추가합니다.
- Quincunx - Vertical: 오프셋 값을 다른 열마다 균일하게 추가합니다.
피벗 위치(로컬) Float3
모양의 로컬 공간에서 피벗의 위치를 조정하며, 이는 변형의 원점에 영향을 줍니다. (예: 위치 오프셋, 회전 및 크기 조절)

예를 들어, Z 피벗 위치를 조정하여 모양을 기준선을 중심으로 회전시킵니다.
3D 회전 Float3
축당 회전을 모든 모양에 회전 수로 균일하게 적용합니다.
3D 회전 무작위 부동
도형에 시계 방향이나 시계 반대 방향으로 지정된 값까지 적용되는 임의의 회전 양에 대한 인수(회전 수)입니다.
3D 회전 무작위 승수 Float3
3D 회전 무작위에 의해 적용된 무작위 회전 양을 축당 개별 계수로 조정합니다.
3D 회전 맵 멀티플라이어 Float3
모양 회전 맵의 값이 각 모양의 축별 회전에 추가되는 강도입니다. 여기서 1은 전체 회전량을 의미합니다.
정상 중심 회전 부동
수직을 중심으로 하는 모든 모양(즉, 로컬 Z축)에 균일하게 적용된 회전 양(회전 수)입니다.
보통 무작위 회전 부동
각 모양에 표준(즉, 로컬 Z축)을 중심으로 시계 방향이나 시계 반대 방향으로 최대 한 바퀴 돌도록 임의 회전을 적용합니다.
경사 회전 부동
해당 위치에서 배경의 경사에 맞게 모양을 회전합니다.
즉, 전체 Z-up 벡터의 회전과 같은 회전을 배경 Height의 표준으로 적용합니다.

이 매개 변수는 이 순환에 대한 인수입니다. 여기서 1은 전체 순환이 적용됨을 의미합니다.

이 회전은 모양에 적용할 수 있는 다른 회전에 추가됩니다.
경사 회전 입력 정수
경사 회전.

- 배경: 배경 Height 텍스처를 사용하는 경우 해당 높이 맵에서 계산된 법선이 회전의 대상 방향입니다.
- 벡터 맵: 벡터 맵 텍스처에서 지정한 벡터가 회전의 대상 방향으로 사용됩니다.
벡터 맵 멀티플라이어 부동
벡터 맵 텍스처에서 설명하는 벡터의 방향과 일치하도록 벡터 맵 회전 축에서 지정한 축을 중심으로 모양을 회전합니다.
즉, 전역 X-오른쪽 벡터와 같은 회전을 텍스처의 벡터에 적용합니다.

이 매개 변수는 이 순환에 대한 인수입니다. 여기서 1은 전체 순환이 적용됨을 의미합니다.

이 회전은 모양에 적용할 수 있는 다른 회전에 추가됩니다.
벡터 맵 회전 축 정수
벡터 맵에서 지정한 회전을 기준으로 하는 축입니다.

- 표준: ‘표준 중심 회전’ 매개 변수를 사용하는 것과 유사하게 모양을 표준 중심으로 회전합니다.
- Z축: ‘3D 회전’ 매개 변수의 Z 구성 요소를 사용하는 것과 유사하게 전역 Z 축을 중심으로 모양을 회전합니다.
무작위 마스크 부동
임의 순서로 도형의 총 양에 대한 지정된 비율을 숨깁니다. 여기서 1은 모든 도형이 숨겨진다는 것을 의미합니다.

이 매개 변수는 마스크 맵과 결합됩니다. (사용되는 경우)
마스크 맵 임계값 부동
마스크 맵의 회색 음영 값(아래에 숨겨진 모양)

맵이 무작위 마스크 매개 변수와 결합되었습니다.
UV 비율 Float2
도형의 UV에 대한 축별 승수입니다. 이 경우 값에 따라 타일링이 증가합니다.
대문자 UV 비율 Float2
값에 따라 타일링이 증가하는 실린더 캡의 UV에 대한 축당 승수입니다.
단면 UV 모드 정수
실린더 캡에 대한 UV를 계산하는 방법입니다.

- 극: 실린더의 Z축 주위로 U가 증가하고 V가 멀어질수록 증가하는 극좌표를 사용합니다.
- 평면: UV가 캡의 테두리 상자(예: 캡의 크기에 맞게 조정된 사각형)를 사용하여 매핑되는 평면 투영을 사용합니다.
모양 2D 상자 표시 부울
이미지에서 모양의 테두리 사각형을 시각화합니다. 도형이 그려지는 영역입니다.
모양 3D 상자 표시 부울
3D 공간에서 모양의 테두리 볼륨에 대한 시각화를 오버레이합니다. SDF 모양과 밀어낸 평면이 그려지는 영역입니다.

SDF 모양의 경우 이 영역은 SDF 테두리 프레임 크기와 일치합니다.

이 시각화는 모양의 범위와 방향을 평가하는 데 도움이 됩니다.
모양 피벗 표시 부울
로컬 XYZ 축 벡터의 조합으로 모양 피벗의 시각화를 오버레이합니다.

이 시각화는 모양의 방향과 변형의 원점을 평가하는 데 도움이 됩니다. (예: 오프셋, 회전, 크기 조정)

예


포아송 분포

균일 분포

밀도 맵

임의 3D 회전

경사 회전

모양 돌출

3D SDF 모양
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