타일 Sampler
내부: 텍스처 생성기 > 패턴
설명
타일 Sampler은 타일 패턴의 궁극적인 생성 노드입니다. Tile Generator의 발전된 복잡한 버전입니다. 2017 2.1년을 기준으로 하면 타일 Sampler과 생성기의 차이가 훨씬 줄어듭니다. 주요 차이점은 크기 조절, 위치, 회전, 크기, 색상 및 마스크 생성에 사용할 수 있는 7개의 다른 맵 슬롯에서만 있습니다. 효과는 개별적으로 혼합할 수 있습니다.
타일 Sampler은 외부 입력 맵으로 제어되는 특정 매개 변수에 대한 추가 제어를 통해 인공 프로시저 패턴을 만들 때 유용합니다.
타일 Sampler으로 넘어가기 전에 Tile Generator에 익숙한지 확인하세요. 대부분의 경우 Tile Generator이면 충분하며 타일 Sampler의 복잡성을 추가할 필요가 없습니다.
입력
패턴 입력 1-6 회색 음영 입력/색상 입력
“Pattern” 매개 변수를 "Image Input"으로 설정할 때 사용되는 사용자 지정 패턴 이미지입니다.
사용 가능한 입력 양은 패턴 입력 번호 매개 변수에 의해 결정됩니다.
사용 가능한 입력 양은 패턴 입력 번호 매개 변수에 의해 결정됩니다.
맵 입력 크기 조절 회색 음영 입력
타일 비율을 제어하는 회색 음영 맵
변위 맵 입력 회색 음영 입력
타일 변위를 구동하기 위한 회색 음영 맵
회전 맵 입력 회색 음영 입력
타일 회전을 구동하는 회색 음영 맵
벡터 맵 입력 색상 입력
균일하지 않은 비율을 구동하기 위한 색상 벡터 맵.
색상 맵 입력 회색 음영 입력/색상 입력
타일당 드라이브 색조에 매핑합니다.
마스크 맵 입력 회색 음영 입력
특정 타일을 숨기는 데 사용되는 마스크 슬롯입니다.
패턴 분포 맵 입력 회색 음영 입력
여러 사용자 정의 패턴 입력을 구동하는 데 사용되는 마스크 슬롯입니다.
배경 입력 회색 음영 입력/색상 입력
선택적 배경 이미지입니다.
매개변수
X 양 0 - 64
패턴의 X-반복의 양입니다.
Y 양 0 - 64
패턴의 Y-반복의 양입니다.
비정사각형 확장 거짓/참
사각형이 아닌 비율로 squash 및 squash를 보정할 수 있습니다.
패턴
패턴 패턴 입력, 정사각형, 디스크, 포물면, 벨, 가우스, 가시, 피라미드, 벽돌, 그라데이션, 파도, 하프 벨, 릿지 벨, 초승달, 캡슐, 원뿔
사용할 패턴 모양을 선택합니다.
패턴 입력 번호 1 - 6
임의로 선택할 수 있는 사용자 정의 패턴의 양입니다.
패턴 입력 분포 임의, 패턴 번호, 분포 맵
여러 패턴 입력을 선택하는 방법을 설정합니다. 무작위란 임의의 것이 선택된 것을 의미하고, 패턴 숫자는 그것들이 단지 반복되는 시퀀스 내에 배치됨을 의미한다. 분포 맵은 회색 음영 맵 입력을 사용하여 배치를 제어합니다.
패턴 입력 필터링(엔진 > v4) 쌍선형 + 밉맵, 쌍선형, 최근접
패턴별 0.0 - 1.0
선택한 패턴의 모양을 변경할 수 있습니다. 효과는 선택한 패턴에 따라 달라집니다.
패턴별 무작위 0.0 - 1.0
임의화 효과는 선택한 패턴에 따라 달라집니다.
회전 0, 90, 180, 270
계단식 회전(90도).
회전 무작위 0.0 - 1.0
타일 단위로 임의 자유 회전.
무작위 대칭 0.0 - 1.0
아래 비헤이비어에 따라 임의로 뒤집거나 미러링할 타일 수를 설정합니다.
대칭 무작위 모드 가로 + 세로, 가로, 세로
대칭 미러링 동작을 결정합니다.
크기
크기 모드 표준, 비율 유지, 절대, 픽셀
패턴 크기의 일반 비헤이비어를 설정합니다.
표준 옵션을 사용하면 패턴 요소의 크기를 정의할 수 있습니다. X와 Y의 양에 영향을 받습니다.
비율 유지를 사용하면 X와 Y의 양에 따라 영향을 받는 크기를 설정할 수 있습니다. 그러나 둘 사이의 X와 Y 비율은 그대로 유지됩니다.
절대 크기를 사용하면 X 및 Y 크기의 영향을 받지 않는 절대 크기를 설정할 수 있습니다.
픽셀 을 사용하면 X 및 Y 양의 영향을 받지 않고 절대 크기를 픽셀 단위로 설정할 수 있습니다. 해상도를 변경하면 요소의 크기에 영향을 줍니다.
표준 옵션을 사용하면 패턴 요소의 크기를 정의할 수 있습니다. X와 Y의 양에 영향을 받습니다.
비율 유지를 사용하면 X와 Y의 양에 따라 영향을 받는 크기를 설정할 수 있습니다. 그러나 둘 사이의 X와 Y 비율은 그대로 유지됩니다.
절대 크기를 사용하면 X 및 Y 크기의 영향을 받지 않는 절대 크기를 설정할 수 있습니다.
픽셀 을 사용하면 X 및 Y 양의 영향을 받지 않고 절대 크기를 픽셀 단위로 설정할 수 있습니다. 해상도를 변경하면 요소의 크기에 영향을 줍니다.
크기(절대/픽셀) 0.0 - 1.0
타일의 불규칙한 비율을 변경합니다. 정확한 동작은 [크기 모드]에 따라 다릅니다.
무작위 크기 0.0 - 1.0
타일당 비율을 임의화합니다.
크기 조절 0.0 - 10.0
전체 타일 비율을 설정합니다.
무작위 크기 조정 0.0 - 1.0
타일당 비율을 임의화합니다.
맵 배율 조정 0.0 - 1.0
비율 맵의 효과에 있는 혼합.
벡터 맵 배율 조정 0.0 - 1.0
비율 벡터 맵의 효과에 있는 혼합을 사용하여 균일하지 않은 비율을 조정합니다.
매개 변수화 영향 크기 조정 X 및 Y, X, Y
크기 조절 매개 변수화가 영향을 미치는 축을 설정합니다. 비율 맵을 사용하여 요소의 X 또는 Y에만 영향을 줄 수 있습니다.
위치
위치 무작위 0.0 - 10.0
두 축 위의 타일 위치를 임의화합니다.
오프셋 0.0 - 1.0
오프셋 유형에 따라 타일을 이동합니다.
오프셋 유형 가로 퀸큐스, 세로 퀸큐스, 가로 글로벌, 세로 글로벌
오프셋이 작동하는 방향을 변경합니다.
전역 오프셋 0.0 - 1.0
X축 또는 Y축의 모든 타일을 전체적으로 오프셋합니다.
변위 맵 강도 0.0 - 1.0
[오프셋]에서 변위 맵 강도의 혼합.
변위 각도 0.0 - 1.0
변위할 각도를 설정합니다.
벡터 맵 변위 0.0 - 1.0
벡터 맵을 사용하여 변위 및 각도를 조정합니다.
회전
회전 0.0 - 1.0
모든 타일을 전역적으로 회전합니다.
회전 무작위 0.0 - 1.0
타일당 임의로 회전합니다.
회전 맵 승수 0.0 - 1.0
타일 단위 회전에 대한 회전 맵 효과의 혼합.
벡터 맵 멀티플라이어 0.0 - 1.0
벡터 맵을 사용하여 타일별 회전을 처리합니다.
색상
마스크 맵 임계값 0.0 - 1.0
타일 숨기기를 시작할 때의 마스크 맵 임계값입니다.
마스크 맵 반전 거짓/참
마스크 맵 효과를 반전시킵니다.
마스크 맵 샘플링 기법 패턴 중심, 패턴 테두리 상자(느림)
숨기는 포인트는 단일 포인트로 결정할지 아니면 테두리 상자로 결정해야 합니다. 흩어진 픽셀로 인해 이상한 효과가 발생하는 것을 방지합니다.
무작위 마스크 0.0 - 1.0
무작위 마스크는 마스크 맵과 병렬로 작동합니다.
마스크 반전 거짓/참
무작위 마스킹을 반전합니다.
혼합 모드 추가/하위, 최대(타일 Sampler)/추가/하위, Alpha 혼합(타일 Sampler 색상)
타일을 배경과 서로 연결하는 혼합 모드.
색상 (회색 음영 값) / (색상 값)
단색 전체 타일 색입니다.
색상/광도 무작위 0.0 - 1.0
타일당 색상 임의화.
색상 매개 변수화 모드 색상 입력, 비율, 선 색인, 행 색인, 패턴 색인(타일 Sampler)/색상 맵, 비율, 선 색인, 행 색인, 패턴 색인, 패턴 중심 위치, 패턴 중심 위치(RG) Bsphere 크기(B)(타일 Sampler 색상)
색상 임의화의 매개 변수 지정 방법을 설정합니다.
색상 매개 변수화 승수 0.0 - 1.0
위 매개 변수화 효과의 혼합.
색상 매개 변수화 영향(색상만 해당) RGB+Alpha, RGB 전용, Alpha 전용
매개 변수화가 색상에 미치는 영향을 설정합니다.
전체 불투명도(회색 음영만) 0.0 - 1.0
전체 타일 불투명도를 설정합니다.
배경색 (회색 음영 값) / (색상 값)
단색 배경색을 설정합니다.
역렌더링 순서 거짓/참
렌더링 순서를 반대로 하여 맨 뒤로 이동합니다.
예
예는 입력 맵(패턴 분포, 크기 조절, 회전)에 의해 매개 변수가 제어되는 방법을 보여 줍니다.
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