Tile Generator
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설명
Tile Generator은 라이브러리에서 가장 진보된 노드 중 하나입니다. 마스터하는 방법을 알면 몇 가지 제한 사항 내에서 모든 종류의 패턴을 만들 수 있습니다. 버전 2017 2.1부터 이 노드가 타일 Sampler에서 수행할 수 있는 작업에 더 잘 맞도록 큰 업데이트가 있었습니다.
이 노드는 다양한 시나리오에 매우 유용하지만 매개변수를 단순히 읽는 것만으로는 매개변수를 사용하는 방법을 완전히 알 수 없다는 점을 염두에 두십시오. 여러분도 실험해보시길 바랍니다!
모든 사례의 99%는 색상 버전이 필요하지 않습니다!
몇 가지 일반적인 사용 팁:
- 기본 모양으로 시작할 수 있지만 사용자 지정 입력(패턴 유형을 이미지 입력(으)로 설정)이 있는 경우 먼저 만드십시오! 그것은 많은 모습을 결정합니다.
- 먼저 X 및 Y 양을 올바르게 설정합니다.
- 올바른 크기 모드 찾기: 간격과 같은 상대 모드는 절대 모드와 상당히 다르게 작동합니다.
- 다음으로 전역 크기 및 비균일 크기를 조정합니다.
- 마지막으로 필요에 맞게 “변형” 매개 변수를 조정합니다. 섬세함은 변형과 함께 핵심입니다!
입력
패턴 입력 1-6 회색 음영 입력
“Pattern” 매개 변수를 "Image Input"으로 설정한 경우 사용되는 사용자 정의 패턴 이미지입니다.
배경 회색 음영 입력
단색 대신 사용할 배경입니다.
매개변수
X 양 1 - 64
패턴의 X-반복의 양입니다.
Y 양 1 - 64
패턴의 Y-반복의 양입니다.
비정사각형 확장 거짓/참
제곱이 아닌 비율로 스쿼시와 스트레치를 보정할 수 있습니다.
패턴
패턴 이미지 입력, 정사각형, 디스크, 포물면, 벨, 가우스, 가시, 피라미드, 벽돌, 그라데이션, 파도, 하프 벨, 고정된 벨, 초승달, 캡슐, 원뿔
사용할 패턴 모양을 선택합니다.
패턴 입력 번호 1 - 6
사용할 서로 다른 이미지 입력 수입니다. 위에서 이미지 입력을 선택한 경우에만 사용할 수 있습니다.
패턴 입력 분포 패턴 번호별 무작위
1개 이상을 선택한 경우 서로 다른 이미지 입력 중에서 선택하는 방법입니다.
패턴별 0.0 - 1.0
선택한 패턴의 모양을 변경할 수 있습니다. 효과는 선택한 패턴에 따라 달라집니다.
이미지 입력 필터링(엔진 >v4만 해당) 쌍선형 + 밉맵, 쌍선형, 최근접
회전 0, 90, 180, 270
모든 타일을 90도 단계로 설정된 각도만큼 전역적으로 회전합니다.
회전 무작위 0.0 - 1.0
란도미는 타일을 4개의 90도 단계 중 하나로 회전시킵니다.
Quincunx 뒤집기 거짓/참
타일을 90도 회전합니다.
무작위 대칭 0.0 - 1.0
선택한 대칭 무작위 모드 로 특정 패턴을 무작위로 미러링합니다. 이 값이 높을수록 더 많은 패턴이 미러링됩니다.
대칭 무작위 모드 가로 + 세로, 가로, 세로
대칭 난수가 0보다 큰 경우 미러링 동작을 결정합니다.
크기
크기 모드 표준 - 간격, 표준 - 크기, 비율 유지, 절대, 픽셀
패턴 크기의 일반 비헤이비어를 설정합니다.
표준 - 간격을 사용하면 패턴 요소 사이의 간격을 정의할 수 있습니다. X와 Y의 양에 영향을 받습니다.
보통 - 크기를 사용하면 간격에 관계없이 패턴 요소의 크기를 정의할 수 있습니다. X와 Y의 양에 영향을 받습니다.
비율 유지를 사용하면 X와 Y의 양에 따라 영향을 받는 크기를 설정할 수 있습니다. 그러나 둘 사이의 X와 Y 비율은 그대로 유지됩니다.
절대 크기를 사용하면 X 및 Y 크기의 영향을 받지 않는 절대 크기를 설정할 수 있습니다.
픽셀 을 사용하면 X 및 Y 양의 영향을 받지 않고 절대 크기를 픽셀 단위로 설정할 수 있습니다. 해상도를 변경하면 요소의 크기에 영향을 줍니다.
표준 - 간격을 사용하면 패턴 요소 사이의 간격을 정의할 수 있습니다. X와 Y의 양에 영향을 받습니다.
보통 - 크기를 사용하면 간격에 관계없이 패턴 요소의 크기를 정의할 수 있습니다. X와 Y의 양에 영향을 받습니다.
비율 유지를 사용하면 X와 Y의 양에 따라 영향을 받는 크기를 설정할 수 있습니다. 그러나 둘 사이의 X와 Y 비율은 그대로 유지됩니다.
절대 크기를 사용하면 X 및 Y 크기의 영향을 받지 않는 절대 크기를 설정할 수 있습니다.
픽셀 을 사용하면 X 및 Y 양의 영향을 받지 않고 절대 크기를 픽셀 단위로 설정할 수 있습니다. 해상도를 변경하면 요소의 크기에 영향을 줍니다.
중간 크기 0.0 - 1.0
열과 행을 번갈아 가며 크기를 변경합니다.
중간 X/Y 0.0 - 1.0
표준 - 간격 크기 모드에서만 사용할 수 있습니다. 간격 간격을 변경합니다. 모양 사이의 이음새에 영향을 주므로 비율과 달리 균일하지 않은 제어가 가능합니다.
크기(절대/픽셀) 0.0 - 1.0
표준 - 중간 크기 모드 밖에서만 사용할 수 있습니다. 크기 조절과 달리 크기가 일정하지 않습니다.
크기 조절 0.0 - 2.0
전체 배율을 설정합니다.
무작위 크기 조정 0.0 - 1.0
타일에 따른 전체 크기 조절 변화를 설정합니다.
임의화 크기 조정 0 - 1000
비율 변형 시드를 오프셋합니다.
위치
오프셋 0.0 - 1.0
모든 연속 행이나 열에 대해 전체 패턴을 점진적으로 오프셋합니다(비헤이비어는 수직 오프셋 매개변수에 따라 다름).
임의 오프셋 0.0 - 1.0
행 오프셋을 임의화합니다.
오프셋 임의 시드 0 - 1000
임의 오프셋 효과의 상대 초기값을 변경합니다.
세로 오프셋 거짓/참
[오프셋] 효과가 행이나 선(가로 또는 세로)에 걸쳐 발생하는지 여부를 설정합니다.
위치 무작위 0.0 - 1.0
X와 Y에 대해 별도의 컨트롤을 사용하여 균일하지 않은 방식으로 위치를 임의화합니다.
전역 오프셋 0.0 - 1.0
X축과 Y축 모두에서 전체 결과를 이동합니다.
회전
회전 0.0 - 1.0
모든 패턴 타일의 자유 회전을 균일하게 수행합니다.
회전 무작위 0.0 - 1.0
모든 타일의 자유 회전을 임의화합니다. 이 값이 높을수록 타일을 더 많이 회전할 수 있습니다.
색상
색상 (회색 음영 값)
타일 단색을 설정합니다.
광도/색상 무작위 0.0 - 1.0
타일별 색상 또는 광도 변화를 소개합니다.
숫자별 광도 거짓/참
전체 패턴에서 광도를 희미하게 만듭니다.
비율별 광도 거짓/참
타일 비율에 따라 광도 변화가 달라집니다.
검사기 마스크 거짓/참
다른 모든 타일을 숨깁니다.
수평 마스크 거짓/참
다른 모든 열을 숨깁니다.
세로 마스크 거짓/참
다른 모든 행을 숨깁니다.
무작위 마스크 0.0 - 1.0
타일을 임의로 숨깁니다. 이 값이 높을수록 타일이 더 많이 사라집니다.
마스크 반전 거짓/참
이 섹션에서 마스크 효과의 결과를 반전합니다.
혼합 모드 추가, 최대, 하위 항목 추가
사용할 혼합 모드를 설정합니다.
배경색 (회색 음영 값)
단색 배경색을 설정합니다.
전체 불투명도 0.0 - 1.0
전체 타일 불투명도를 설정합니다.
역렌더링 순서 거짓/참
타일을 앞뒤로 또는 그 반대로 렌더링합니다.
예
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