来自网格的环境遮蔽
通过“从BakerAmbient occlusion”，可以从高多边形网格烘焙Ambient occlusion纹理。 它比基ambient occlusionBaker速度慢，但生成的结果更准确。
适用于：
- Substance Designer
- Substance自动化工具包
- Substance Painter
参数
参数
描述
次生射线
遮蔽光线的数量。 较高的值会产生较少的杂色，但计算时间较长。 默认值为64。
分钟遮挡距离
遮蔽光线将照射到高多边形几何的最小距离。 默认值为0.00001。
最大遮挡距离
遮蔽光线将照射到高多边形几何的最大距离。 默认值为0.1。
相对于定界框
如果启用，单位将相对于对象的定界框（1.0是定界框的对角长度）。 如果禁用，则用于最小和最大遮挡板距离的单位为导出网格时定义的单位（米、厘米或导出的场景的任何单位）。
扩散角度
遮蔽射线的最大扩散角度。 默认值为180。
分发
遮蔽射线的角度分布。 定义光线在扩散角大小的圆锥内的散射方式。可能的值：
- 余弦（默认）：真实，但可能会导致极细的遮挡区域出现白线。 更适合着色和光照。
- 一致：用于创建线性渐变。 更适用于图层蒙版和其他筛选。
忽略背面
此参数定义遮挡射线是否忽略背面的点击（如果高多边形法线与发射光线的低多边形脸部相反的方向）。 大多数情况下，应启用此设置以避免出现伪影。 可能的值：
- Nevers（默认）：绝不会忽略背面
- 始终：始终忽略背面
- 按网格名：只有与后缀关键字匹配的网格才会忽略后缀。 请参阅常用参数。
自遮蔽
按名称匹配遮挡射线。 指示Baker应如何匹配低多边形和高多边形几何。 它可用于过滤烘焙过程，而无需手动分离（分解）网格。可能的值：
- 始终（默认）：低多边形网格与每个高多边形网格匹配。
- 按网格名称：按名称筛选网格，以避免与不需要的几何相匹配。
要了解有关匹配几何的更多信息，请参阅： 按名称匹配。
法线图
指向普通纹理的可选路径。 可用于代替面包机内部计算。
世界空间
如果启用，则正常纹理将被解释为世界空间法向，而不是切线空间。
正常方向
法向纹理的格式（如果位于相切空间中）。可能的值：
- DirectX（默认）
- OpenGL
衰减
定义如何通过遮挡距离衰减遮蔽。可能的值：
- 无：无衰减。
- 线性（默认）：渐进衰减。
- 平滑：软衰减。
地平面
如果启用，在XZ轴的网格边界框下模拟与次生射线冲突的平面。 此模拟阴影来自不可见的平面图。
地平面偏移
允许将计划移离网格以降低效果的强度。 该值为绝对值，与网格大小无关。
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